一,機(jī)械性因素 　　這是創(chuàng)傷性口炎最多見的原因,常形成創(chuàng)傷性潰瘍,按刺激持續(xù)時(shí)間的不同,可分為持久性及非持久性刺激因素,持久性刺激因素包括齲齒破壞后的殘冠,殘根,尖銳的牙尖,經(jīng)磨損后的牙齒銳緣,不良修復(fù)體的卡環(huán),尖銳邊緣,過長的基板,舌系帶過短時(shí)與新生下頜乳切牙的摩擦等均是長期存留在口腔內(nèi)可以引起慢性創(chuàng)傷性損害的因素,非持久性機(jī)械刺激包括硬,脆食物(如油炸或烘烤過的較硬食物),硬橡皮制成的奶嘴,咀嚼不慎時(shí)的咬傷,牙刷太舊不整齊的刷毛,刷牙用力不當(dāng),口腔科醫(yī)師使用器械操作不當(dāng),或其他外傷等均可對口腔粘膜造成急性損傷。

　　二,化學(xué)因素 　　常見的化學(xué)物質(zhì)為具有腐蝕性的強(qiáng)酸,強(qiáng)堿,口腔治療用藥酚,銀,三氧化二砷等接觸了口腔粘膜,臨床上多見于誤入口腔或使用不當(dāng),有時(shí)則為自傷性。

　　三,物理性因素 　　口腔粘膜的熱損傷并不多見,偶因飲料,茶水或食物過燙時(shí)引起粘膜燙傷,超過一定劑量放射線全身或頭面部照射,可引起全身和口腔組織損傷,造成急性放射病和/或放射性口炎,主要變化是炎癥,戰(zhàn)時(shí)發(fā)生在核武器爆炸后,和平時(shí)期多因惡性腫瘤的放射治療或因輻射事故引起。